フォトリソグラフィは光電情報産業の核となるリンク、フォトレジスト技術の壁は高い
フォトリソグラフィーは、光学的、化学的、物理的な方法を用いて、設計された回路図をウェハーなどの表面に転写するもので、光電情報産業チェーンの中核をなすものである。 フォトレジストは、樹脂、光重合開始剤、溶剤、モノマーなどからなる感光性混合液体で、フォトリソグラフィー工程における最もコアな消耗品であり、その性能がフォトリソグラフィーの品質を決定する。 現在、フォトレジストの生産には、プロセス技術、検査装置、川下認証の面で高い壁があります。
パネル・半導体産業の急速な発展で、中国のフォトレジスト市場は明るい未来が待っている
フォトレジストは主に半導体、ディスプレイパネル、プリント基板の分野で使用されており、ディスプレイパネルが27％、プリント基板が25％、半導体が24％となっています。 近年、電子情報産業の更新スピードが加速し、半導体やディスプレイパネル産業の東方シフトと相まって、中国におけるフォトレジストの需要が急速に高まり、中国のフォトレジストの市場規模は2015年の100億元から2020年には176億元に増加、年平均成長率は12％、当社の予測では、20222025年に222、25、281316億元に到達すると予想されています 成長領域は広大です。 世界のフォトレジスト市場は、2010年の56億米ドルから2020年には87億米ドルに増加し、年平均成長率は5%。20222025年には98億米ドル、103億米ドル、109億米ドル、114億米ドルに達すると予測し、着実に増加していくと考えています。 不完全な統計によると、現在 Crystal Clear Electronic Material Co.Ltd(300655) とフォトレジストの大量生産を達成するために、中国の他の上場企業は、2021フォトレジスト関連事業の売上高は、中国の市場規模の約14％、5％の世界市場規模を占めて27.4億元、中国市場と世界市場は、国内の代替のための広大なスペースがある。
世界のフォトレジスト供給は高度に集中し、ハイエンド分野では中国が徐々にブレークスルーしている
フォトレジストは技術・資本集約型の産業であり、世界の供給市場は、日本のJSRなど大手5社で87％を占め、海外の大手もEUVなどハイエンドプロセスの量産を実現するなど、集中度が高い。 現在、中国のフォトレジスト生産は主にPCBフォトレジストとその他のローエンド製品に集中しており、そのうちPCBフォトレジストが94％を占めている。一方、半導体用g/i線接着剤の自給率は約10％、KrF接着剤の自給率は5％以下、ArF接着剤は基本的に輸入に依存している。 政策推進と半導体産業チェーンの需要拡大に伴い、中国の優秀な大手企業が積極的に突破し、EUV接着剤は02特別合格、 Shanghai Sinyang Semiconductor Materials Co.Ltd(300236) 、徐州博康ArF接着剤は顧客テスト段階、 Jiangsu Nata Opto-Electronic Material Co.Ltd(300346) ArF接着剤は一部顧客認証、 Crystal Clear Electronic Material Co.Ltd(300655) などのi/g線接着剤は大量生産を達成した。 ハイエンドのフォトレジスト分野では中国メーカーの進出が徐々に進んでおり、国内代替の流れが加速することが予想されます。
投資アドバイス：中国のフォトレジストを代表とする電子化学品産業の急速な発展を考慮し、電子化学品産業の「推奨」評価を最初にカバーすることにした。 Red Avenue New Materials Group Co.Ltd(603650) , Shenzhen Rongda Photosensitive & Technology Co.Ltd(300576) , Crystal Clear Electronic Material Co.Ltd(300655) , Phichem Corporation(300398) , Jiangsu Nata Opto-Electronic Material Co.Ltd(300346) , Hmt(Xiamen)New Technical Materials Co.Ltd(603306) , Shanghai Sinyang Semiconductor Materials Co.Ltd(300236) , Jiangsu Yoke Technology Co.Ltd(002409) , Valiant Co.Ltd(002643) に注意を払うことを推奨します。
リスクの内容：川下需要の伸びが期待どおりでない、大幅な景気後退、プロジェクトの生産スケジュールが期待どおりでない、安全および環境に関するリスク、川下の認証プロセスが期待どおりでない、会社の業績に対する注目度が期待どおりでないなどのリスク、国内代替品の実施進捗が不透明、技術進歩が業界に与える影響が不透明である。
